黑矩阵结构及其制造方法、显示基板、显示装置
实质审查的生效
摘要
本申请公开一种黑矩阵结构及其制造方法、显示基板、显示装置，属于显示技术领域。该黑矩阵结构包括交叉的多个黑矩阵条，该黑矩阵条的侧面的粗糙度小于2微米，该黑矩阵条的侧面与参考平面相交，该参考平面与该多个黑矩阵条交叉限定的平面平行。本申请提供的黑矩阵结构中黑矩阵条的侧面的粗糙度较小，能够适用于分辨率要求较高的显示装置。
基本信息
专利标题 ：
黑矩阵结构及其制造方法、显示基板、显示装置
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114333567A
申请号 ：
CN202011064189.2
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2020-09-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
刘弘徐敬义刘鹏张永强李波霍培荣
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京三高永信知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
杨广宇
优先权 ：
CN202011064189.2
主分类号 ：
G09F9/30
IPC分类号 ：
G09F9/30 G02F1/1335 G02F1/1333
IPC结构图谱
G
G部——物理
G09
教育；密码术；显示；广告；印鉴
G09F
显示；广告；标记；标签或铭牌；印鉴
G09F9/00
采用选择或组合单个部件在支架上建立信息的可变信息的指示装置（其中可变信息永久性的连接在可动支架上的入G09F11/00
G09F9/30
由组合单个部件所形成的符号所需的字符或字符组
法律状态
2022-04-29 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G09F 9/30
申请日 : 20200930
申请日 : 20200930
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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