阵列基板、显示装置和制造阵列基板的方法
实质审查的生效
摘要
提供了一种包括具有多个子像素的显示区域的阵列基板。多个子像素包括在显示接合子区域中的多个第一子像素和在常规显示子区域中的多个第二子像素。阵列基板包括在基底基板的第一侧并分别在多个子像素中的多个薄膜晶体管。多个第一子像素中的相应一个包括:接合焊盘,其位于基底基板的第二侧;引线,其将多个薄膜晶体管中的相应一个电连接到接合焊盘;以及过孔,其延伸穿过所述基底基板。引线在阵列基板中未被暴露。引线经由过孔从基底基板的第一侧延伸到第二侧,以连接到接合焊盘。
基本信息
专利标题 :
阵列基板、显示装置和制造阵列基板的方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114270252A
申请号 :
CN202080000353.5
公开(公告)日 :
2022-04-01
申请日 :
2020-03-24
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王珂狄沐昕梁志伟王国强顾仁权宋晓欣朱小研刘英伟曹占锋
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 :
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 :
吴俣
优先权 :
CN202080000353.5
主分类号 :
G02F1/1362
IPC分类号 :
G02F1/1362 H01L21/00
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
法律状态
2022-04-19 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1362
申请日 : 20200324
申请日 : 20200324
2022-04-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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