阵列基板及其制造方法、显示装置
实质审查的生效
摘要

本申请公开了一种阵列基板及其制造方法、显示装置,属于显示技术领域。该阵列基板中的衬底具有挖孔区和环绕挖孔区布置的绕线区,加载极性相同电压的第一信号线和第二信号线中,位于绕线区内的第一绕线和第二绕线在衬底上的正投影部分重合。如此,在绕线区内,加载极性相反电压的两条信号线间距增大,产生的寄生电容较小。当阵列基板中的子像素分时充电时,先完成充电的子像素连接的信号线加载的电压,受后进行充电的子像素连接的信号线加载的电压的影响较小,先完成充电的子像素连接的信号线加载的电压不会大幅度降低,提高了子像素的充电率,避免了该阵列基板显示画面上出现暗竖纹的现象,提高了该阵列基板的显示效果。

基本信息
专利标题 :
阵列基板及其制造方法、显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114442354A
申请号 :
CN202011193425.0
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2020-10-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
张永强徐敬义刘弘刘鹏霍培荣丁爱宇肖振宏李波黄波
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司;鄂尔多斯市源盛光电有限责任公司
申请人地址 :
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
北京三高永信知识产权代理有限责任公司
代理人 :
杨广宇
优先权 :
CN202011193425.0
主分类号 :
G02F1/1333
IPC分类号 :
G02F1/1333  G02F1/1362  G09G3/36  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1333
申请日 : 20201030
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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