阵列基板及其制造方法、显示装置
实质审查的生效
摘要

本公开提供一种阵列基板及其制造方法、显示装置,涉及显示技术领域。阵列基板包括多条数据线和多个子像素,至少一子像素包括:第一绝缘层,位于第一衬底基板一侧;栅极,位于第一衬底基板与第一绝缘层之间;有源层,位于第一绝缘层远离栅极一侧;像素电极;第一电极,位于有源层和像素电极远离第一衬底基板一侧、连接至有源层且与像素电极接触;第二电极,连接至有源层和一数据线;第二绝缘层,位于像素电极、第一和第二电极远离第一衬底基板一侧且具有第一开口,第一开口与像素电极和第一电极在第一衬底基板上的正投影部分交叠;连接电极,通过第一开口与像素电极和第一电极接触;公共电极,位于第二绝缘层远离像素电极一侧且与连接电极间隔开。

基本信息
专利标题 :
阵列基板及其制造方法、显示装置
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN114442387A
申请号 :
CN202011189386.7
公开(公告)日 :
2022-05-06
申请日 :
2020-10-30
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
侯文杰缪应蒙苏秋杰赵重阳曲峰
申请人 :
京东方科技集团股份有限公司;北京京东方显示技术有限公司
申请人地址 :
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 :
中国贸促会专利商标事务所有限公司
代理人 :
张海强
优先权 :
CN202011189386.7
主分类号 :
G02F1/1362
IPC分类号 :
G02F1/1362  G02F1/1343  G02F1/1333  G02F1/1337  G02F1/1335  G02F1/1339  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
法律状态
2022-05-24 :
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/1362
申请日 : 20201030
2022-05-06 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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