阵列基板及其制造方法、显示装置

授权

摘要

本申请涉及一种阵列基板及其制造方法、显示装置，阵列基板包括衬底基板、设置于衬底基板上密封区的挡墙和设置于衬底基板上显示区的配向膜；挡墙位于密封区框胶粘结处的内侧，挡墙用于防止显示区的配向膜向框胶粘结处扩散；挡墙包括第一挡墙及第二挡墙；第一挡墙包括多个间隔设置的第一阻挡件；第二挡墙位于第一挡墙与框胶粘结处之间，第二挡墙包括多个间隔设置的第二阻挡件；第一挡墙用于对配向膜进行至少第一流动方向的阻挡，第二挡墙用于对配向膜进行至少第二流动方向的阻挡。上述的阵列基板能够减小配向膜的流动速度，避免配向膜与框胶粘结处交叠而降低框胶的附着力，还能够阻挡配向膜的回流。

基本信息

专利标题：

阵列基板及其制造方法、显示装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN112083607A

申请号：

CN202011007768.3

公开（公告）日：

2020-12-15

申请日：

2020-09-23

授权号：

CN112083607B

授权日：

2022-04-22

发明人：

王小东唐崇伟

申请人：

惠科股份有限公司

申请人地址：

广东省深圳市宝安区石岩街道水田村民营工业园惠科工业园厂房1、2、3栋，九州阳光1号厂房5、7楼

代理机构：

广州华进联合专利商标代理有限公司

代理人：

纪婷婧

优先权：

CN202011007768.3

主分类号：

G02F1/1339

IPC分类号：

G02F1/1339