阵列基板、显示装置和制造阵列基板的方法
授权
摘要
本申请公开了一种具有多个薄膜晶体管(100)的阵列基板、显示装置以及制造阵列基板的方法。阵列基板包括：衬底基板(10)；半导体层(400)，其位于衬底基板(10)上，并且包括分别用于多个薄膜晶体管(100)的多个有源层(40)；以及静电排放层(300)，其与半导体层(400)电连接并且构造为排放半导体层(400)中的静电荷。
基本信息
专利标题 ：
阵列基板、显示装置和制造阵列基板的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN109952532A
申请号 ：
CN201780000786.9
公开（公告）日 ：
2019-06-28
申请日 ：
2017-08-08
授权号 ：
CN109952532B
授权日 ：
2022-04-08
发明人 ：
谢蒂旎李伟
申请人 ：
京东方科技集团股份有限公司
申请人地址 ：
北京市朝阳区酒仙桥路10号
代理机构 ：
北京天昊联合知识产权代理有限公司
代理人 ：
柴亮
优先权 ：
CN201780000786.9
主分类号 ：
G02F1/136
IPC分类号 ：
G02F1/136
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元
法律状态
2022-04-08 ：
授权
2019-07-23 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G02F 1/136
申请日 : 20170808
申请日 : 20170808
2019-06-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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