液晶显示装置用基板的制造方法
专利权的终止
摘要

本发明提供一种在TFT基板的规定位置上高精度地形成滤色器或者黑矩阵的曝光图案的液晶显示装置用基板的制造方法。为此,包括:在TFT基板(6)上涂敷滤色器或者黑矩阵的感光材料的步骤;由搬运单元(3)边以规定速度搬运涂敷了上述感光材料的TFT基板(6)边由摄像单元(2)拍摄像素区域的步骤;由控制单元(4)的图像处理部(13)检测利用上述摄像单元(2)拍摄的像素区域中预先设定的基准位置的步骤;以及形成步骤,以该检测出的基准位置为基准,由灯控制器(16)控制曝光光学系统(1)的光源(7)的照射定时,在TFT基板(6)的规定位置上形成滤色器或者黑矩阵的曝光图案。

基本信息
专利标题 :
液晶显示装置用基板的制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101099106A
申请号 :
CN200580046016.5
公开(公告)日 :
2008-01-02
申请日 :
2005-10-28
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
饭野仁
申请人 :
集成方案株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京林达刘知识产权代理事务所
代理人 :
刘新宇
优先权 :
CN200580046016.5
主分类号 :
G02F1/1335
IPC分类号 :
G02F1/1335  G02F1/13  G02F1/1368  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/1335
•••••与液晶单元结构相连的光学装置,例如偏振器或反射器
法律状态
2021-10-19 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02F 1/1335
申请日 : 20051028
授权公告日 : 20090722
终止日期 : 20201028
2009-07-22 :
授权
2009-04-29 :
专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 集成方案株式会社
变更后权利人 : 株式会社V技术
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本东京都
变更后权利人 : 日本神奈川县
登记生效日 : 20090327
2008-02-27 :
实质审查的生效
2008-01-02 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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