液晶显示器的阵列基板及其制造方法
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
摘要

一种液晶显示器的阵列基板及其制造方法,该阵列基板包括一玻璃基板;一沟槽,位于该玻璃基板中;一栅极与一栅极介电层位于该沟槽中;一半导体层至少覆盖该栅极介电层,该半导体层至少包括一通道;及一源极和一漏极,分别电性连接该通道两侧的部分半导体层液晶显示器的阵列基板。本发明可以改善在制作显示面板时,于像素显示区设置多层薄膜,影响显示面板的光穿透率的现象,及解决因TFT使阵列基板不平坦所造成的问题。

基本信息
专利标题 :
液晶显示器的阵列基板及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1740882A
申请号 :
CN200510106454.8
公开(公告)日 :
2006-03-01
申请日 :
2005-09-27
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
王湧锋潘智瑞
申请人 :
广辉电子股份有限公司
申请人地址 :
台湾桃园县
代理机构 :
永新专利商标代理有限公司
代理人 :
李树明
优先权 :
CN200510106454.8
主分类号 :
G02F1/136
IPC分类号 :
G02F1/136  H01L21/027  
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
法律状态
2008-03-19 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
变更后 : 中国台湾新竹
变更事项 : 专利权人
变更前 : 广辉电子股份有限公司
变更后 : 友达光电股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 台湾桃园县
2008-02-13 :
授权
2006-04-26 :
实质审查的生效
2006-03-01 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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