液晶显示器件及其制造方法
专利权的终止
摘要
本发明涉及一种可以简化制造工序并提高孔径比的液晶显示器件及其制造方法，该方法包括：形成包括栅线、栅极和公共线的第一掩模图案组；在所述栅绝缘膜上利用第二掩模形成包括半导体图案和具有数据线、源极和漏极的源/漏图案的第二掩模图案组；利用第三掩模形成包括在所述像素孔中与所述保护膜接触以连接到所述漏极的像素电极的第三掩模图案组，从而所述像素电极与所述公共电极形成水平电场。
基本信息
专利标题 ：
液晶显示器件及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1782838A
申请号 ：
CN200510127729.6
公开（公告）日 ：
2006-06-07
申请日 ：
2005-12-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
安炳喆
申请人 ：
LG.菲利浦LCD株式会社
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN200510127729.6
主分类号 ：
G02F1/136
IPC分类号 ：
G02F1/136 G02F1/133 H01L29/786 G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元
法律状态
2019-11-15 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G02F 1/136
申请日 : 20051202
授权公告日 : 20091104
终止日期 : 20181202
申请日 : 20051202
授权公告日 : 20091104
终止日期 : 20181202
2009-11-04 ：
授权
2006-08-02 ：
实质审查的生效
2006-06-07 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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