液晶显示器件及其制造方法
授权
摘要
一种具有增加的孔径比以及简化的制造工序的LCD器件的水平电场施加型薄膜晶体管基板。该器件包括具有双层结构的栅线，所述双层结构包括透明第一导电层和不透明第二导电层；与栅线交叉以限定像素区域的数据线；连接到栅线和数据线的薄膜晶体管；具有第一导电层和第二导电层并基本上平行于栅线的公共线；在像素区域中从公共线的第一导电层延伸出的公共电极；以及连接到薄膜晶体管的像素电极，以与公共电极一起在像素区域中形成水平电场。
基本信息
专利标题 ：
液晶显示器件及其制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1940689A
申请号 ：
CN200510107921.9
公开（公告）日 ：
2007-04-04
申请日 ：
2005-09-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
安炳喆
申请人 ：
LG.菲利浦LCD株式会社
申请人地址 ：
韩国首尔
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN200510107921.9
主分类号 ：
G02F1/1368
IPC分类号 ：
G02F1/1368 H01L29/786 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如转换、选通、调制或解调，上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的；用于上述操作的技术或工艺；变频；非线性光学；光学逻辑元件；光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置，例如，转换、选通或调制；非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的，例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备；液晶单元的工作；电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元，例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
G02F1/1368
其中开关元件为三电极装置
法律状态
2009-03-04 ：
授权
2007-05-30 ：
实质审查的生效
2007-04-04 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN1940689A.PDF
PDF下载
2、
CN100465747C.PDF
PDF下载
