液晶显示装置用下基板的制造方法
授权
摘要
一种液晶显示装置用下基板的制造方法,包括如下步骤:(A)提供一基板;(B)于该基板上形成一第一金属层,并利用一第一掩膜对该第一金属层图案化;(C)于该基板及该第一金属层上形成一第一绝缘层;(D)于该第一绝缘层上形成一半导体层,并利用该第一掩膜对该半导体层图案化,且该半导体层位于该第一金属层之上;(E)于该半导体层上形成一第二金属层,并对该第二金属层图案化;(F)于该第二金属层、该半导体层及该第一绝缘层上方形成一第二绝缘层,并对该第二绝缘层图案化;(G)于该第二绝缘层上方形成一透明电极层,并对该透明电极层图案化。本发明仅需要四个掩膜数目,就可以进行五道掩膜(光刻付蚀)工艺,而且还可以减少一道掩膜的制作费用。
基本信息
专利标题 :
液晶显示装置用下基板的制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1815321A
申请号 :
CN200610058617.4
公开(公告)日 :
2006-08-09
申请日 :
2006-03-02
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
徐文义
申请人 :
广辉电子股份有限公司
申请人地址 :
台湾省桃园县
代理机构 :
北京三友知识产权代理有限公司
代理人 :
党晓林
优先权 :
CN200610058617.4
主分类号 :
G02F1/1333
IPC分类号 :
G02F1/1333 G02F1/136 G03F7/20 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/1333
构造上的设备
法律状态
2008-05-07 :
授权
2008-01-02 :
专利申请权、专利权的转移(专利申请权的转移)
变更前权利人 : 广辉电子股份有限公司
变更后权利人 : 友达光电股份有限公司
变更事项 : 地址
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 台湾省桃园县
变更后权利人 : 台湾省新竹市
登记生效日 : 20071130
变更后权利人 : 友达光电股份有限公司
变更事项 : 地址
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 台湾省桃园县
变更后权利人 : 台湾省新竹市
登记生效日 : 20071130
2006-10-04 :
实质审查的生效
2006-08-09 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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