有源矩阵显示装置及其制造方法
专利申请权、专利权的转移
摘要

有源矩阵显示装置包括穿过密封材料的连接配线。连接配线夹在无机层间绝缘膜和有机平坦化膜之间。选择性地移除密封区域处的有机膜,从而形成暴露无机膜的开口部分,并用密封材料填充。密封材料在开口部分的底部接触下层的无机层间绝缘膜,以增加粘结强度。

基本信息
专利标题 :
有源矩阵显示装置及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1800957A
申请号 :
CN200510135821.7
公开(公告)日 :
2006-07-12
申请日 :
2005-12-23
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
吉永一秀
申请人 :
NEC液晶技术株式会社
申请人地址 :
日本神奈川县
代理机构 :
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 :
穆德骏
优先权 :
CN200510135821.7
主分类号 :
G02F1/1362
IPC分类号 :
G02F1/1362  G02F1/1333  H01L29/786  H01L21/027  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G02
光学
G02F
用于控制光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如转换、选通、调制或解调,上述器件或装置的光学操作是通过改变器件或装置的介质的光学性质来修改的;用于上述操作的技术或工艺;变频;非线性光学;光学逻辑元件;光学模拟/数字转换器
G02F1/00
控制来自独立光源的光的强度、颜色、相位、偏振或方向的器件或装置,例如,转换、选通或调制;非线性光学
G02F1/01
对强度、相位、偏振或颜色的控制
G02F1/13
基于液晶的,例如单位液晶显示单元
G02F1/133
构造上的设备;液晶单元的工作;电路装置
G02F1/136
结构上与一半导体层或基片相结合的液晶单元,例如形成集成电路部分的液晶单元
G02F1/1362
有源矩阵寻址单元
法律状态
2019-08-30 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G02F 1/1362
登记生效日 : 20190809
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 深圳峰创智诚科技有限公司
变更后权利人 : 北海惠科光电技术有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 518057 广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区科技南十二路009号迈瑞研发大楼4层B01室
变更后权利人 : 536000 广西壮族自治区北海市工业园区北海大道东延线336号广西惠科科技有限公司二期A座4楼A-430室
2019-07-23 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G02F 1/1362
登记生效日 : 20190704
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 天马微电子股份有限公司
变更后权利人 : 深圳峰创智诚科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 518052 广东省深圳市南山区大新路88号天马大厦
变更后权利人 : 518057 广东省深圳市南山区粤海街道高新区社区科技南十二路009号迈瑞研发大楼4层B01室
2019-06-25 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : G02F 1/1362
变更事项 : 专利权人
变更前 : 天马微电子股份有限公司
变更后 : 天马微电子股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 518052 广东省深圳市福田区深南中路航都大厦22层南
变更后 : 518052 广东省深圳市南山区大新路88号天马大厦
2019-06-14 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
IPC(主分类) : G02F 1/1362
变更事项 : 专利权人
变更前 : NLT科技股份有限公司
变更后 : 天马日本株式会社
变更事项 : 地址
变更前 : 日本神奈川县
变更后 : 日本神奈川县川崎市
2019-06-14 :
专利申请权、专利权的转移
专利权的转移IPC(主分类) : G02F 1/1362
登记生效日 : 20190527
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 天马日本株式会社
变更后权利人 : 天马微电子股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 日本神奈川县川崎市
变更后权利人 : 广东省深圳市福田区深南中路航都大厦22层南
2011-12-21 :
专利权人的姓名或者名称、地址的变更
号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101242316160
IPC(主分类) : G02F 1/1362
专利号 : ZL2005101358217
变更事项 : 专利权人
变更前 : NEC液晶技术株式会社
变更后 : NLT科技股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 日本神奈川县
变更后 : 日本神奈川县
2008-10-08 :
授权
2006-09-06 :
实质审查的生效
2006-07-12 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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