有源矩阵衬底及其制造方法
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摘要

本发明的目的在于提供一种高开口率的有源矩阵衬底,其能够防止象素电极和辅助电容电极之间的电短路。在绝缘衬底(1)上形成栅极线(2)和辅助电容电极(3),在辅助电容电极(3)上形成孔部(3h)。形成第1层间绝缘膜(5),使其将栅极线(2)和辅助电容电极(3)覆盖,在其上形成源极线(9)、半导体层和漏极(10),并形成第2层间绝缘膜(12)将它们覆盖。在第2层间绝缘膜(12)上形成接触孔(14),接触孔(14)在与上述孔部(3h)对应的部分到达上述漏极(10)。第2层间绝缘膜(12)上形成的象素电极(15)通过上述接触孔(14)连接到漏极(10)上。

基本信息
专利标题 :
有源矩阵衬底及其制造方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1819217A
申请号 :
CN200610005775.3
公开(公告)日 :
2006-08-16
申请日 :
2006-01-06
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
泽水京子大谷诚松井泰志
申请人 :
三菱电机株式会社
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
中国专利代理(香港)有限公司
代理人 :
浦柏明
优先权 :
CN200610005775.3
主分类号 :
H01L27/12
IPC分类号 :
H01L27/12  H01L23/522  H01L21/84  H01L21/768  G02F1/1368  
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法律状态
2009-07-15 :
授权
2006-10-11 :
实质审查的生效
2006-08-16 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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