透明基板、电光学装置及其制造方法、图像形成装置

专利权的终止

摘要

提供一种具备维持光的利用效率、提高生产率的微透镜的透明基板、电光学装置、图像形成装置及电光学装置的制造方法。在玻璃基板(30)的光取出面(30b)上形成凹沟槽(32)，在同一凹沟槽(32)内，遍及各凹沟槽(32)的主扫描方向X的几乎所有范围，连续形成了以发光元件(36)的排列方向(主扫描方向X)为轴方向的半圆柱状的微透镜(40)。而且，使微透镜(40)邻近发光元件(36)仅凹沟槽(32)的深度(邻近距离Hd)大小。

基本信息

专利标题：

透明基板、电光学装置及其制造方法、图像形成装置

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1769927A

申请号：

CN200510114088.0

公开（公告）日：

2006-05-10

申请日：

2005-10-18

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

长谷井宏宣

申请人：

精工爱普生株式会社

申请人地址：

日本东京

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

李香兰

优先权：

CN200510114088.0

主分类号：

G02B3/00

IPC分类号：

G02B3/00 G02B3/02 G03G15/043 H05B33/26 H05B33/12