曝光方法、形成凸起和凹陷图案的方法以及制造光学元件的方法
专利权的终止
摘要
本发明涉及一种通过使用低成本、稳定的固态激光器或气体激光器作为曝光光源，以及通过使用g－行或i－行用的光致抗蚀剂来简单地形成具有亚微米大小的行宽的曝光图案。通过部分控制光敏材料的反应时间常数、以及用激光束照射形成在基板W表面上的具有预定厚度的光敏材料层的预定部分进行曝光，同时控制被控制的激光束的光束强度和扫描速度。
基本信息
专利标题 ：
曝光方法、形成凸起和凹陷图案的方法以及制造光学元件的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101133365A
申请号 ：
CN200680002960.5
公开（公告）日 ：
2008-02-27
申请日 ：
2006-01-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
保土沢善仁江上力
申请人 ：
富士胶片株式会社
申请人地址 ：
日本国东京都
代理机构 ：
北京北新智诚知识产权代理有限公司
代理人 ：
赵郁军
优先权 ：
CN200680002960.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2015-03-25 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101602182376
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2006800029605
申请日 : 20060124
授权公告日 : 20100811
终止日期 : 20140124
号牌文件序号 : 101602182376
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2006800029605
申请日 : 20060124
授权公告日 : 20100811
终止日期 : 20140124
2010-08-11 ：
授权
2008-04-23 ：
实质审查的生效
2008-02-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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