形成图案的方法
专利权的终止
摘要
本发明是有关于一种形成图案的方法，一个方面是针对于一种形成图案的方法。在基板的第二层上选择性地形成一个包含聚合引发剂的第一层。藉由使用该聚合引发剂使一有机单体经历活性自由基聚合，在该第一层上选择性地形成使一个聚合物层。使用该聚合物层作为遮罩，选择性地蚀刻该第二层。
基本信息
专利标题 ：
形成图案的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1780529A
申请号 ：
CN200510105603.9
公开（公告）日 ：
2006-05-31
申请日 ：
2005-09-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
桜井直明
申请人 ：
株式会社东芝
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京中原华和知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
寿宁
优先权 ：
CN200510105603.9
主分类号 ：
H05K3/06
IPC分类号 ：
H05K3/06 H01L21/027 G03F7/00
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法律状态
2017-11-10 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : H05K 3/06
申请日 : 20050928
授权公告日 : 20090624
终止日期 : 20160928
申请日 : 20050928
授权公告日 : 20090624
终止日期 : 20160928
2009-06-24 ：
授权
2006-07-26 ：
实质审查的生效
2006-05-31 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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