图案形成方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明提供一种可以通过减轻在图案形成材料的被曝光面上形成的所述图案的析像度的不均或浓度的不均,来高精细而且有效地形成所述图案的图案形成方法。所以,本发明提供一种图案形成方法,其特征在于,在被处理基体上层叠在支撑体上具有感光层的图案形成材料中的该感光层之后,相对于对该感光层,使用曝光头(其中,该曝光头为具备光照射机构以及具有n个排列成二维状的描绘部的光调制机构且被配置成所述描绘部的列方向相对扫描方向呈规定的设定倾斜角度θ),所述方法包括:对于所述曝光头,利用使用描绘部指定机构,指定用于N重曝光的所述描绘部的工序;对于所述曝光头,利用描绘部控制机构,进行所述描绘部的控制的工序;相对于所述感光层,使所述曝光头沿扫描方向相对地移动,从而进行曝光的工序。

基本信息
专利标题 :
图案形成方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN101156109A
申请号 :
CN200680011107.X
公开(公告)日 :
2008-04-02
申请日 :
2006-02-22
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
高岛正伸角克人古和田一辉铃木一诚植村隆之
申请人 :
富士胶片株式会社
申请人地址 :
日本国东京都
代理机构 :
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 :
朱丹
优先权 :
CN200680011107.X
主分类号 :
G03F7/20
IPC分类号 :
G03F7/20  G03F7/027  G03F7/029  G03F7/11  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-08-25 :
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101006992869
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利申请号 : 200680011107X
公开日 : 20080402
2008-05-28 :
实质审查的生效
2008-04-02 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN101156109A.PDF
PDF下载
  • 联系电话
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 联系 Q Q
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 关注微信
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332
  • 收藏
    电话:023-6033-8768
    QQ:1493236332