光刻系统及形成图案的方法
实质审查的生效
摘要
于此公开的实施方式关于光刻系统和制造图案的方法。光刻系统包括用于产生掩模、图案化基板、在图案化的基板上执行计量以及将计量值与掩模进行比较的各种部件。形成图案的方法包括以下步骤：将图案化的基板与掩模进行比较；及确定新的掩模，新的掩模结合了来自先前掩模的图案化中的校正。方法可重复几次，以便顺序地提高用于光刻系统中光刻所使用的掩模的质量。集成光刻系统减少了用户的使用时间和成本。
基本信息
专利标题 ：
光刻系统及形成图案的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114556218A
申请号 ：
CN201980101412.5
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2019-10-16
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
康宗勋吉鸿宾塔纳·科斯陈正方阿宁达鲁巴·陈德道格拉斯·万·迪恩·布鲁克
申请人 ：
应用材料公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
北京律诚同业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐金国
优先权 ：
CN201980101412.5
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H01L21/027 H01L21/66 H01L21/67
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20191016
申请日 : 20191016
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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