光刻胶、光刻胶的图案化方法及集成电路板的刻蚀方法

授权

摘要

本发明公开了一种光刻胶，按重量份剂，包括有机溶剂、功能粒子1～50份、自由基淬灭剂0～2份且不为0份，所述功能粒子包括可自由基聚合型金属氧化物以及包被在所述金属氧化物表面的有机物配体，所述有机物配体具有可自由基引发聚合的基团。本发明还公开了一种光刻胶的图案化方法。本发明还公开了一种集成电路板的刻蚀方法。

基本信息

专利标题：

光刻胶、光刻胶的图案化方法及集成电路板的刻蚀方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111965947A

申请号：

CN202010811304.1

公开（公告）日：

2020-11-20

申请日：

2020-08-13

授权号：

CN111965947B

授权日：

2022-04-01

发明人：

徐宏何向明王倩倩

申请人：

清华大学;北京华睿新能动力科技发展有限公司

申请人地址：

北京市海淀区清华园

代理机构：

北京华进京联知识产权代理有限公司

代理人：

王勤思

优先权：

CN202010811304.1

主分类号：

G03F7/20

IPC分类号：

G03F7/20 H01L21/027 H01L21/308

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/20

曝光及其设备

法律状态

2022-04-01 ：

授权

2022-03-22 ：

著录事项变更

IPC(主分类) : G03F 7/004
变更事项 : 申请人
变更前 : 无锡华睿芯材科技有限公司
变更后 : 常州华睿芯材科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 214142 江苏省无锡市新吴区菱湖大道200-11号中国传感网国际创新园E2-503
变更后 : 213100 江苏省常州市常州西太湖科技产业园祥云路6号3号楼1楼

2021-07-20 ：

专利申请权、专利权的转移

专利申请权的转移IPC(主分类) : G03F 7/004
登记生效日 : 20210707
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 清华大学
变更后权利人 : 无锡华睿芯材科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100084 北京市海淀区清华园
变更后权利人 : 214142 江苏省无锡市新吴区菱湖大道200-11号中国传感网国际创新园E2-503
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 北京华睿新能动力科技发展有限公司

2020-12-08 ：

实质审查的生效

IPC(主分类) : G03F 7/20
申请日 : 20200813

2020-11-20 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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