光刻胶组合物、用它形成光刻图案的方法及其用途

授权

摘要

本发明涉及一种光刻胶组合物，包括：金属氧化物纳米簇，所述金属氧化物纳米簇包括金属氧化物内核和与所述金属氧化物内核配位的有机配体，其分子通式为M_xO_y(OH)_mL_n，M为金属元素，L为所述有机配体，且为含有双键的有机基团，4≤x≤8，2≤y≤8，0≤m≤4，12≤n≤16；光产酸剂；自由基淬灭剂；以及溶剂。本发明进一步涉及用所述光刻胶组合物形成光刻图案的方法和光刻胶组合物的用途。

基本信息

专利标题：

光刻胶组合物、用它形成光刻图案的方法及其用途

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN111948904A

申请号：

CN202010811408.2

公开（公告）日：

2020-11-17

申请日：

2020-08-13

授权号：

CN111948904B

授权日：

2022-04-01

发明人：

徐宏何向明王倩倩

申请人：

清华大学;北京华睿新能动力科技发展有限公司

申请人地址：

北京市海淀区清华园

代理机构：

北京华进京联知识产权代理有限公司

代理人：

王勤思

优先权：

CN202010811408.2

主分类号：

G03F7/004

IPC分类号：

G03F7/004 G03F7/027 G03F7/00

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/004

感光材料

法律状态

2022-04-01 ：

授权

2022-03-22 ：

著录事项变更

IPC(主分类) : G03F 7/004
变更事项 : 申请人
变更前 : 无锡华睿芯材科技有限公司
变更后 : 常州华睿芯材科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 214142 江苏省无锡市新吴区菱湖大道200-11号中国传感网国际创新园E2-503
变更后 : 213100 江苏省常州市常州西太湖科技产业园祥云路6号3号楼1楼

2021-07-16 ：

专利申请权、专利权的转移

专利申请权的转移IPC(主分类) : G03F 7/004
登记生效日 : 20210702
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 清华大学
变更后权利人 : 无锡华睿芯材科技有限公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 100084 北京市海淀区清华园
变更后权利人 : 214142 江苏省无锡市新吴区菱湖大道200-11号中国传感网国际创新园E2-503
变更事项 : 申请人
变更前权利人 : 北京华睿新能动力科技发展有限公司

2020-12-04 ：

实质审查的生效

IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20200813

2020-11-17 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

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