微细图案形成用组合物以及使用其的微细图案形成方法
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摘要
[问题]提供一种微细图案形成用组合物、以及使用其的微细图案形成方法，所述微细图案形成用组合物即使适用于厚膜抗蚀层，也使得图案形状良好，尺寸缩小率高，缺陷数少。[解决方案]一种组合物、以及使用其的微细图案形成方法，所述组合物包含乙烯基树脂、具有特定的笼型的立体结构的胺类化合物、以及溶剂。
基本信息
专利标题 ：
微细图案形成用组合物以及使用其的微细图案形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN108780284A
申请号 ：
CN201780017114.9
公开（公告）日 ：
2018-11-09
申请日 ：
2017-02-27
授权号 ：
CN108780284B
授权日 ：
2022-04-12
发明人 ：
宫本义大片山朋英佐尾高步
申请人 ：
AZ电子材料(卢森堡)有限公司
申请人地址 ：
卢森堡国卢森堡市
代理机构 ：
北京三幸商标专利事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘卓然
优先权 ：
CN201780017114.9
主分类号 ：
G03F7/40
IPC分类号 ：
G03F7/40 G03F7/004 G03F7/031 G03F7/033
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/40
去除影像之后的处理，例如，烘干
法律状态
2022-04-12 ：
授权
2019-04-09 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/40
申请日 : 20170227
申请日 : 20170227
2018-11-09 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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