阻挡膜形成用材料及使用它的图案形成方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明公开了一种阻挡膜形成用材料及使用它的图案形成方法。在衬底(101)上形成抗蚀膜(102)。接着，在已形成的抗蚀膜(102)上形成含有碱性化合物即例如二环己基胺的阻挡膜(103)。接着，将含有硫酸铯的液体浸渍用液体(104)供到阻挡膜(103)上的状态下，用曝光光(105)透过阻挡膜(103)选择性地照射抗蚀膜(102)，进行图案曝光。接着，进行了图案曝光后去掉阻挡膜(103)，对已进行图案曝光的抗蚀膜(102)还进行显像处理，形成形状良好的抗蚀图案(102a)。因此，能够防止用于浸渍光刻的液体浸渍用液体对抗蚀膜造成影响，得到形状良好的微细图案。

基本信息

专利标题：

阻挡膜形成用材料及使用它的图案形成方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1786820A

申请号：

CN200510116654.1

公开（公告）日：

2006-06-14

申请日：

2005-10-26

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

远藤政孝屉子胜

申请人：

松下电器产业株式会社

申请人地址：

日本大阪府

代理机构：

北京市金杜律师事务所

代理人：

杨宏军

优先权：

CN200510116654.1

主分类号：

G03F7/11

IPC分类号：

G03F7/11 G03F7/20