抗蚀剂保护膜形成用材料及使用该材料的抗蚀剂图案形成方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
在液浸曝光处理中，能同时防止使用以水为代表的各种液浸曝光用液体的液浸曝光中抗蚀剂膜的桥等变质以及液浸曝光用液体的变质，并且能不增加处理工序数地进一步提高抗蚀剂膜的储藏稳定性，能使用液浸曝光形成高析像度的抗蚀剂图案。作为抗蚀剂保护膜形成用材料，使用特征在于用于形成抗蚀剂膜的上层保护膜、含有可溶于碱的聚合物成分、所述聚合物成分与水的接触角为90°以上的抗蚀剂保护膜形成用材料。作为上述聚合物，优选至少含有(甲基)丙烯酸构成单元与特定的丙烯酸酯构成单元的丙烯酸类聚合物。
基本信息
专利标题 ：
抗蚀剂保护膜形成用材料及使用该材料的抗蚀剂图案形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101088047A
申请号 ：
CN200580044399.2
公开（公告）日 ：
2007-12-12
申请日 ：
2005-12-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
石塚启太远藤浩太朗
申请人 ：
东京应化工业株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
北京市金杜律师事务所
代理人 ：
杨宏军
优先权 ：
CN200580044399.2
主分类号 ：
G03F7/11
IPC分类号 ：
G03F7/11 H01L21/027 C08F220/22
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
G03F7/11
具有覆盖层或中间层的，例如，胶层
法律状态
2011-03-23 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101077488469
IPC(主分类) : G03F 7/11
专利申请号 : 2005800443992
公开日 : 20071212
号牌文件序号 : 101077488469
IPC(主分类) : G03F 7/11
专利申请号 : 2005800443992
公开日 : 20071212
2008-02-06 ：
实质审查的生效
2007-12-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN101088047A.PDF
PDF下载
