光致抗蚀剂图案修整组合物和修整光致抗蚀剂图案的方法
实质审查的生效
摘要
光致抗蚀剂图案修整组合物，其包含：聚合物，所述聚合物包含含有酸可分解基团的单体作为聚合单元，所述基团的分解在所述聚合物上形成羧酸基团；非聚合物酸或非聚合物热酸产生剂；以及包含一种或多种有机溶剂的基于有机物的溶剂体系。修整光致抗蚀剂图案的方法包括将此类图案修整组合物施加到光致抗蚀剂图案上，所述光致抗蚀剂图案由包含光酸产生剂和含有酸可分解基团的聚合物的光致抗蚀剂组合物形成。所述光致抗蚀剂图案修整组合物和图案形成方法特别用于在半导体制造工业中形成精细光刻图案。
基本信息
专利标题 ：
光致抗蚀剂图案修整组合物和修整光致抗蚀剂图案的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114488694A
申请号 ：
CN202111118018.8
公开（公告）日 ：
2022-05-13
申请日 ：
2021-09-23
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
I·考尔刘聪K·罗威尔
申请人 ：
罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请人地址 ：
美国马萨诸塞州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
乐洪咏
优先权 ：
CN202111118018.8
主分类号 ：
G03F7/039
IPC分类号 ：
G03F7/039
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/039
可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂
法律状态
2022-05-31 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/039
申请日 : 20210923
申请日 : 20210923
2022-05-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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