用于在光致抗蚀剂图案上涂覆的组合物

发明专利申请公布后的驳回

摘要

本发明涉及用于涂覆光致抗蚀剂图案的水性涂料组合物，其包含含氨基的聚合物。本发明还涉及微电子元件的制造方法，包括：提供具有光致抗蚀剂图案的衬底，用新型涂料涂覆所述光致抗蚀剂图案，让与所述光致抗蚀剂图案接触的涂料的一部分反应，和将没有与移除溶液反应的涂料的一部分除去。

基本信息

专利标题：

用于在光致抗蚀剂图案上涂覆的组合物

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101057185A

申请号：

CN200580038784.6

公开（公告）日：

2007-10-17

申请日：

2005-10-25

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

工藤隆范M·帕德曼纳班R·R·达莫尔

申请人：

AZ电子材料美国公司

申请人地址：

美国新泽西

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

王健

优先权：

CN200580038784.6

主分类号：

G03F7/40

IPC分类号：

G03F7/40

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/26

感光材料的处理及其设备

G03F7/40

去除影像之后的处理，例如，烘干

法律状态

2013-01-23 ：

发明专利申请公布后的驳回

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101501193090
IPC(主分类) : G03F 7/40
专利申请号 : 2005800387846
申请公布日 : 20071017

2007-12-26 ：

实质审查的生效

2007-10-17 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

文件下载

1、

CN101057185A.PDF

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