用于改进光致抗蚀剂涂覆操作的系统、装置和方法
公开
摘要
本公开涉及用于改进光致抗蚀剂涂覆操作的系统、装置和方法。一种涂覆系统包括器皿、器皿内的柔性容器和涂覆装置。柔性容器包括出口端口，其中柔性容器被配置为响应于器皿内的压力增加而收缩。柔性容器被配置为响应于收缩通过出口端口输出涂覆成分。涂覆装置被配置为从出口端口接收涂覆成分。
基本信息
专利标题 ：
用于改进光致抗蚀剂涂覆操作的系统、装置和方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114609866A
申请号 ：
CN202110142399.7
公开（公告）日 ：
2022-06-10
申请日 ：
2021-02-02
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
陈俊明林建良王俊翔蔡任右
申请人 ：
台湾积体电路制造股份有限公司;台积电（南京）有限公司
申请人地址 ：
中国台湾新竹市
代理机构 ：
北京东方亿思知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
朱亦林
优先权 ：
CN202110142399.7
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2022-06-10 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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