光致抗蚀剂剥离液组合物以及光致抗蚀剂的剥离方法

专利权的终止

摘要

本发明提供光致抗蚀剂剥离液组合物、以及光致抗蚀剂和光致抗蚀剂变质层的剥离方法，其在半导体电路元件的制造工序中，对干蚀刻后残留的光致抗蚀剂以及光致抗蚀剂变质层等具有优良的剥离性；且不会对新型的布线材料和层间绝缘膜材料产生浸蚀。本发明所使用的光致抗蚀剂剥离液组合物含有：炔醇化合物和有机磺酸化合物之中的至少1种、以及多元醇及其衍生物之中的至少1种。

基本信息

专利标题：

光致抗蚀剂剥离液组合物以及光致抗蚀剂的剥离方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN1831654A

申请号：

CN200610054750.2

公开（公告）日：

2006-09-13

申请日：

2006-03-10

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

大和田拓央池上薰

申请人：

关东化学株式会社

申请人地址：

日本东京都

代理机构：

永新专利商标代理有限公司

代理人：

陈建全

优先权：

CN200610054750.2

主分类号：

G03F7/42

IPC分类号：

G03F7/42

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/26

感光材料的处理及其设备

G03F7/42

剥离或剥离剂

法律状态

2015-04-29 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101607925926
IPC(主分类) : G03F 7/42
专利号 : ZL2006100547502
申请日 : 20060310
授权公告日 : 20120718
终止日期 : 20140310

2012-07-18 ：

授权

2008-04-30 ：

实质审查的生效

2006-09-13 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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1、

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2、

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