光致抗蚀剂组合物及图案形成方法
实质审查的生效
摘要
光致抗蚀剂组合物包含：酸敏感聚合物，其包含由包含酸可分解基团的第一可自由基聚合单体形成的第一重复单元和由包含羧酸基团的第二可自由基聚合单体形成的第二重复单元；包含两个或更多个烯醇醚基团的化合物，其中所述化合物不同于所述酸敏感聚合物；包含碱不稳定基团的材料；光酸产生剂；以及溶剂。所述光致抗蚀剂组合物和使用所述光致抗蚀剂组合物的图案形成方法特别地可用于在半导体制造工业中形成精细光刻图案。
基本信息
专利标题 ：
光致抗蚀剂组合物及图案形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114442427A
申请号 ：
CN202111260293.3
公开（公告）日 ：
2022-05-06
申请日 ：
2021-10-28
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
侯希森李明琦J·凯茨T·马兰戈尼P·特雷夫纳斯三世
申请人 ：
罗门哈斯电子材料有限责任公司
申请人地址 ：
美国马萨诸塞州
代理机构 ：
上海专利商标事务所有限公司
代理人 ：
乐洪咏
优先权 ：
CN202111260293.3
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 H01L21/027
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-05-24 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20211028
申请日 : 20211028
2022-05-06 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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