抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法
实质审查的生效
摘要
本发明涉及抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法。本发明提供一种抗蚀剂下层膜材料，含有：(A)下列通式(1)表示的化合物中的一种或二种以上；及(B)有机溶剂。式中，W为碳数2～50的n价有机基团，X为下列通式(2)及(3)表示的末端基团结构，令下列通式(2)、(3)的结构的比例为a、b时，满足0.70≤a≤0.99、0.01≤b≤0.30的关系。n为1～10的整数。
Z为碳数6～20的(k+1)价芳香族基团。A为单键、或‑O‑(CH2)p‑。k为1～5的整数。p为1至10的整数。
L为单键或‑(CH2)r‑。l为2或3，r为1～5的整数。
基本信息
专利标题 ：
抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、以及抗蚀剂下层膜形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114545733A
申请号 ：
CN202111402884.X
公开（公告）日 ：
2022-05-27
申请日 ：
2021-11-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
郡大佑中原贵佳美谷岛祐介原田裕次
申请人 ：
信越化学工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙)
代理人 ：
刘新宇
优先权 ：
CN202111402884.X
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 G03F7/16
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2022-06-14 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/004
申请日 : 20211124
申请日 : 20211124
2022-05-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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