抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法
授权
摘要
本发明提供一种具有优异的耐受碱性过氧化氢水的性能、良好的嵌入/平坦化特性、及干法蚀刻特性的抗蚀剂下层膜材料、使用了该抗蚀剂下层膜材料的图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法。其为用于多层抗蚀剂法的抗蚀剂下层膜材料，其含有：(A1)下述通式(X)表示的化合物中的一种或两种以上；以及，(B)有机溶剂。[化学式1] 式中，n01表示1～10的整数，n01为2时，W表示亚硫酰基、磺酰基、醚基、或碳原子数为2～50的二价有机基团，n01为2以外的整数时，W表示碳原子数为2～50的n01价有机基团。此外，Y表示单键或碳原子数为1～10的可包含氧原子的二价连接基团。
基本信息
专利标题 ：
抗蚀剂下层膜材料、图案形成方法、及抗蚀剂下层膜形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN108693713A
申请号 ：
CN201810275797.4
公开（公告）日 ：
2018-10-23
申请日 ：
2018-03-30
授权号 ：
CN108693713B
授权日 ：
2022-06-03
发明人 ：
佐藤裕典长井洋子渡边武郡大佑荻原勤
申请人 ：
信越化学工业株式会社
申请人地址 ：
日本东京都
代理机构 ：
北京路浩知识产权代理有限公司
代理人 ：
张晶
优先权 ：
CN201810275797.4
主分类号 ：
G03F7/11
IPC分类号 ：
G03F7/11 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
G03F7/11
具有覆盖层或中间层的，例如，胶层
法律状态
2022-06-03 ：
授权
2018-11-16 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/11
申请日 : 20180330
申请日 : 20180330
2018-10-23 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN108693713A.PDF
PDF下载
