抗蚀剂组合物
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要

本发明提供一种抗蚀剂组合物,其不仅可以提高调制抗蚀剂时的溶解性、显影时的抗蚀膜密合性的特性,而且抗蚀剂稳定性提高,还具有优异的安全性,其是含有抗蚀剂成分和有机溶剂的抗蚀剂组合物,该有机溶剂是从含有一缩二丙二醇单烷基醚、一缩二丙二醇烷基醚乙酸酯等的组中选择的至少1种一缩二丙二醇衍生物,且该一缩二丙二醇衍生物的用下述式(1)~(4)(式中,R1表示烷基或芳基,R2表示氢原子、烷基、芳基、乙酰基或丙酰基,R2表示乙酰基或丙酰基)表示的结构异构体中的式(1)表示的结构异构体的含有率为30重量%或30重量%以上且不足100重量%的结构异构体混合物。

基本信息
专利标题 :
抗蚀剂组合物
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1782877A
申请号 :
CN200510124725.2
公开(公告)日 :
2006-06-07
申请日 :
2005-11-16
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
牧泽克宪片山彻
申请人 :
大赛璐化学工业株式会社
申请人地址 :
日本大阪府
代理机构 :
北京市柳沈律师事务所
代理人 :
张平元
优先权 :
CN200510124725.2
主分类号 :
G03F7/039
IPC分类号 :
G03F7/039  G03F7/00  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/039
可光降解的高分子化合物,例如,正电子抗蚀剂
法律状态
2010-07-21 :
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003373092
IPC(主分类) : G03F 7/039
专利申请号 : 2005101247252
公开日 : 20060607
2007-12-05 :
实质审查的生效
2006-06-07 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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