深UV用光致抗蚀剂组合物及其方法

发明专利申请公布后的视为撤回

摘要

本发明涉及新型化学放大的光致抗蚀剂，其对300nm－100nm的波长敏感，并且包含：a)包含从聚合物骨架悬吊下的砜基团的新型聚合物，该聚合物不溶于碱性水溶液并且包含至少一个被酸不稳定基团保护的酸性结构部分，和b)在辐射下能够产生酸的化合物。本发明还涉及新型正性光致抗蚀剂组合物的成像方法。

基本信息

专利标题：

深UV用光致抗蚀剂组合物及其方法

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101061434A

申请号：

CN200580039939.8

公开（公告）日：

2007-10-24

申请日：

2005-11-21

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

F·M·胡里汉R·R·达米尔A·R·罗马诺M·帕德马纳班D·M·拉曼

申请人：

AZ电子材料美国公司

申请人地址：

美国新泽西

代理机构：

中国国际贸易促进委员会专利商标事务所

代理人：

王健

优先权：

CN200580039939.8

主分类号：

G03F7/039

IPC分类号：

G03F7/039 C08F290/04

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/004

感光材料

G03F7/039

可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂

法律状态

2011-02-02 ：

发明专利申请公布后的视为撤回

号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101064476909
IPC(主分类) : G03F 7/039
专利申请号 : 2005800399398
公开日 : 20071024

2007-12-26 ：

实质审查的生效

2007-10-24 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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