正性干膜光致抗蚀剂以及用于制备该光致抗蚀剂的组合物

专利权的终止

摘要

正性型光致抗蚀剂树脂膜包含支持膜和层叠在所述支持膜上的正性光致抗蚀剂树脂层。所述光致抗蚀剂层可以由包含树脂、光敏化合物和第一溶剂的组合物形成，其中第一溶剂具有足够高的沸点，以使通过加热可以将第二溶剂从所述组合物中除去，同时将第一溶剂基本上留在所述组合物中。

基本信息

专利标题：

正性干膜光致抗蚀剂以及用于制备该光致抗蚀剂的组合物

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101111803A

申请号：

CN200680003673.6

公开（公告）日：

2008-01-23

申请日：

2006-02-01

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

金炳基朴世炯卞达锡宋锡政朴钟旼

申请人：

可隆株式会社

申请人地址：

韩国京畿道

代理机构：

中科专利商标代理有限责任公司

代理人：

陈平

优先权：

CN200680003673.6

主分类号：

G03F7/022

IPC分类号：

G03F7/022

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/004

感光材料

G03F7/022

苯醌重氮

法律状态

2020-01-17 ：

专利权的终止

未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/022
申请日 : 20060201
授权公告日 : 20110720
终止日期 : 20190201

2011-07-20 ：

授权

2008-03-12 ：

实质审查的生效

2008-01-23 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

文件下载

1、

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2、

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