光致抗蚀剂剥离组合物
公开
摘要
提供了一种包含有机胺的光致抗蚀剂剥离组合物和方法。光致抗蚀剂剥离组合物包含具有下式(1)的有机胺：
基本信息
专利标题 ：
光致抗蚀剂剥离组合物
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114341744A
申请号 ：
CN201980099512.9
公开（公告）日 ：
2022-04-12
申请日 ：
2019-08-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
姜鑫S·W·金
申请人 ：
陶氏环球技术有限责任公司
申请人地址 ：
美国密歇根州
代理机构 ：
北京泛华伟业知识产权代理有限公司
代理人 ：
徐舒
优先权 ：
CN201980099512.9
主分类号 ：
G03F7/42
IPC分类号 ：
G03F7/42
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/42
剥离或剥离剂
法律状态
2022-04-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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