抑制电化腐蚀的非水光致抗蚀剂剥离剂

专利申请权、专利权的转移

摘要

当用于电子器件表面的不同类型金属的叠层结构时，通过抗电化腐蚀的非水、无腐蚀性清洁组合物，提供了本发明的光致抗蚀剂的剥离剂和清洁组合物。这些非水光致抗蚀剂的剥离剂和清洁组合物包括：(a)至少一种极性有机溶剂，(b)至少一种二胺或多胺，其具有至少一个伯胺基团和一个或多个仲胺和/或叔胺基团，并且具有上式(1)，其中R₁、R₂、R₄和R₅可以独立地选自H、OH、羟烷基和氨基烷基；R₆和R₇每个独立地是H或烷基，m和n每个独立地是1或更大的整数，条件是，选择R₁、R₂、R₄和R₅，使得在该化合物中有至少一个伯胺基团和至少一个仲胺或叔胺基团，和(c)至少一种选自8－羟基喹啉和其异构体、苯并三唑、儿茶酚、单糖和多元醇的腐蚀抑制剂，多元醇选自甘露糖醇、山梨糖醇、阿糖醇、木

基本信息

专利标题：

抑制电化腐蚀的非水光致抗蚀剂剥离剂

专利标题（英）：

暂无

公开（公告）号：

CN101164016A

申请号：

CN200680013202.3

公开（公告）日：

2008-04-16

申请日：

2006-03-16

授权号：

暂无

授权日：

暂无

发明人：

稻冈诚二

申请人：

马林克罗特贝克公司

申请人地址：

美国新泽西州

代理机构：

北京市柳沈律师事务所

代理人：

张平元

优先权：

CN200680013202.3

主分类号：

G03F7/42

IPC分类号：

G03F7/42 C11D3/37 C11D11/00

IPC结构图谱

G部——物理

G03

摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术

G03F

图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备

G03F7/00

图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备

G03F7/26

感光材料的处理及其设备

G03F7/42

剥离或剥离剂

法律状态

2017-05-31 ：

专利申请权、专利权的转移

专利权的转移号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101752094010
IPC(主分类) : G03F 7/42
专利号 : ZL2006800132023
登记生效日 : 20170508
变更事项 : 专利权人
变更前权利人 : 安万托特性材料股份有限公司
变更后权利人 : 安万托特性材料有限责任公司
变更事项 : 地址
变更前权利人 : 美国新泽西州
变更后权利人 : 美国宾夕法尼亚州

2011-02-23 ：

专利权人的姓名或者名称、地址的变更

号牌文件类型代码 : 1602
号牌文件序号 : 101068495013
IPC(主分类) : G03F 7/42
专利号 : ZL2006800132023
变更事项 : 专利权人
变更前 : 马林克罗特贝克公司
变更后 : 安万托特性材料股份有限公司
变更事项 : 地址
变更前 : 美国新泽西州
变更后 : 美国新泽西州

2010-12-01 ：

授权

2008-06-11 ：

实质审查的生效

2008-04-16 ：

公开

注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。

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