用于光致抗蚀剂干式沉积的设备
实质审查的生效
摘要
讨论了用于极紫外线敏感(EUV敏感)光致抗蚀剂层的干式沉积的系统和技术。在一些这样的系统中，可以提供特征在于多充气部喷头的处理室，所述多充气部喷头被配置成在一个充气部中接收汽化有机金属前体以及在另一充气部中接收其汽化逆反应物。这两种汽化反应物可以被输送至在处理室内且在支撑该衬底的晶片支撑件上的反应空间。
基本信息
专利标题 ：
用于光致抗蚀剂干式沉积的设备
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114365044A
申请号 ：
CN202080060616.1
公开（公告）日 ：
2022-04-15
申请日 ：
2020-06-22
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
布奇·伯尼艾伦·M·舍普蒂莫西·威廉·威德曼凯文·利·顾吴呈昊卡蒂·林恩·纳尔迪鲍里斯·沃洛斯基克林特·爱德华·托马斯撒德·尼科尔森
申请人 ：
朗姆研究公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海胜康律师事务所
代理人 ：
李献忠
优先权 ：
CN202080060616.1
主分类号 ：
G03F7/16
IPC分类号 ：
G03F7/16 G03F7/004 H01L21/67 H01L21/683
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/16
涂层处理及其设备
法律状态
2022-05-03 ：
实质审查的生效
IPC(主分类) : G03F 7/16
申请日 : 20200622
申请日 : 20200622
2022-04-15 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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