光致抗蚀剂膜的干式室清洁
公开
摘要
含金属光致抗蚀剂膜可使用干式沉积技术沉积在半导体衬底上。在沉积、斜面和背侧清洁、烘烤、显影或蚀刻操作期间，非预期的含金属光致抗蚀剂材料可能形成在处理室的内表面上。原位干式室清洁可通过暴露于蚀刻气体来执行，以去除非预期的含金属光致抗蚀剂材料。干式室清洁可以在升高的温度且未激励等离子体下执行。在一些实施方案中，干式室清洁可包括抽排/清扫及调节操作。
基本信息
专利标题 ：
光致抗蚀剂膜的干式室清洁
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN114631062A
申请号 ：
CN202080058274.X
公开（公告）日 ：
2022-06-14
申请日 ：
2020-06-25
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
丹尼尔·彼得李达蒂莫西·威廉·威德曼鲍里斯·沃洛斯基吴呈昊卡蒂·林恩·纳尔迪凯文·利·顾利昂·塔莱萨曼莎·西亚姆华·坦游正义薛萌
申请人 ：
朗姆研究公司
申请人地址 ：
美国加利福尼亚州
代理机构 ：
上海胜康律师事务所
代理人 ：
李献忠
优先权 ：
CN202080058274.X
主分类号 ：
G03F7/36
IPC分类号 ：
G03F7/36 G03F7/16 G03F7/004 H01J37/32
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
G03F7/36
G03F7/30至G03F7/34组中不包括的影像去除，例如，用气流、用等离子体去除影像
法律状态
2022-06-14 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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