具有多个抗反射涂层的光致抗蚀剂的成像方法
专利权的终止
摘要
光致抗蚀剂的成像方法，包括以下步骤：a)在基材上形成多个有机抗反射涂层的堆叠体；b)在该多个有机抗反射涂层的堆叠体的顶层上形成光致抗蚀剂的涂层；c)用曝光设备将该光致抗蚀剂成像曝光；和d)用显影剂将该涂层显影。
基本信息
专利标题 ：
具有多个抗反射涂层的光致抗蚀剂的成像方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101142533A
申请号 ：
CN200680008827.0
公开（公告）日 ：
2008-03-12
申请日 ：
2006-02-09
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
D·J·阿卜杜拉M·O·奈塞尔R·R·达梅尔G·帕夫洛夫斯基J·比亚福尔A·R·罗马诺金羽圭
申请人 ：
AZ电子材料美国公司
申请人地址 ：
美国新泽西
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
王健
优先权 ：
CN200680008827.0
主分类号 ：
G03F7/09
IPC分类号 ：
G03F7/09
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/09
以细部结构为特征的，例如，基片层、辅助层
法律状态
2015-04-01 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101603366898
IPC(主分类) : G03F 7/09
专利号 : ZL2006800088270
申请日 : 20060209
授权公告日 : 20120229
终止日期 : 20140209
号牌文件序号 : 101603366898
IPC(主分类) : G03F 7/09
专利号 : ZL2006800088270
申请日 : 20060209
授权公告日 : 20120229
终止日期 : 20140209
2012-02-29 ：
授权
2008-05-07 ：
实质审查的生效
2008-03-12 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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