碱水型显影光成像抗蚀剂
专利权的终止未缴年费专利权终止
摘要
本发明提供一种碱水型显影光成像抗蚀剂，它是以改性马来酸酐共聚物为主体树脂，沸点为160℃以上的液态脂肪族饱和羧酸酯为反应性稀释剂，与光引发剂和助剂组成。可作为油墨用于制造印刷线路板，其涂层均匀，湿膜一经加热即固化成干膜，就可用接触曝光制得高分辨率的印刷线路图像。它不含挥发性大的有机溶剂，粘度稳定，故使用方便安全、无环境污染。
基本信息
专利标题 ：
碱水型显影光成像抗蚀剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1056754A
申请号 ：
CN91104683.6
公开（公告）日 ：
1991-12-04
申请日 ：
1991-07-16
授权号 ：
CN1021378C
授权日 ：
1993-06-23
发明人 ：
任孝修黄明智饶国英姚光俊王启明张焕印
申请人 ：
北京化工学院
申请人地址 ：
100069北京市北三环东路15号
代理机构 ：
北京化工学院专利代理事务所
代理人 ：
卢国楷
优先权 ：
CN91104683.6
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
1998-09-09 ：
专利权的终止未缴年费专利权终止
1993-06-23 ：
授权
1991-12-04 ：
公开
1991-11-13 ：
实质审查请求已生效的专利申请
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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