高反差正性光致抗蚀剂显影的方法
专利权的视为放弃
摘要
正性光致抗蚀剂碱性溶液两步显影方法提供使光致抗蚀剂产生高反差。所公开的显影液包括氢氧化钾、碳氮化合物或羧化物表面活性剂那样的碱基溶液。在光致抗蚀剂的反差上碳氮化合物或羧化物的表面活性剂的加入可产生意想不到的增加，在对已曝光的抗蚀剂膜的有效显影中双浸方法可加以使用，在浴的使用期中光致抗蚀剂的反差和感光度将基本保持不变。高反差光致抗蚀剂提供线宽控制，并且进一步改进光致抗蚀剂图形加工的一致性。
基本信息
专利标题 ：
高反差正性光致抗蚀剂显影的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN85107347A
申请号 ：
CN85107347.6
公开（公告）日 ：
1986-08-20
申请日 ：
1985-09-30
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
詹姆斯·马丁·刘易斯
申请人 ：
阿兰特公司
申请人地址 ：
美国新泽西州07960-2245毛里斯市邮政信箱2245R
代理机构 ：
上海专利事务所
代理人 ：
张恒康
优先权 ：
CN85107347.6
主分类号 ：
G03C5/24
IPC分类号 ：
G03C5/24
法律状态
1996-01-31 ：
专利权的视为放弃
1990-10-17 ：
变更
变更前 : 赫尔斯美利坚有限公司 变更后 : 迈克罗西有限公司
1986-08-20 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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