含萘酚官能性的正性抗蚀剂
授权
摘要
使用具有含萘酚酯基团的丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯单体单元的聚合物获得了可用193nm照射成像的酸催化的正性抗蚀剂组合物。该抗蚀剂可任选含有具有带含氟官能团的丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯单体单元的聚合物。与常规含氟193nm的抗蚀剂相比，含有具有含萘酚酯基团的丙烯酸酯/甲基丙烯酸酯单体单元的聚合物的该抗蚀剂具有提高的加工范围，包括提高的耐蚀刻性和降低的溶胀性。
基本信息
专利标题 ：
含萘酚官能性的正性抗蚀剂
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1790163A
申请号 ：
CN200510119431.0
公开（公告）日 ：
2006-06-21
申请日 ：
2005-11-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
M·霍贾斯特陈光荣P·R·瓦拉纳斯
申请人 ：
国际商业机器公司
申请人地址 ：
美国纽约
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
刘明海
优先权 ：
CN200510119431.0
主分类号 ：
G03F7/039
IPC分类号 ：
G03F7/039 G03F7/027 G03F7/038
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
G03F7/039
可光降解的高分子化合物，例如，正电子抗蚀剂
法律状态
2009-09-16 ：
授权
2006-08-16 ：
实质审查的生效
2006-06-21 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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2、
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