浸液曝光用抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法
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摘要
一种浸液曝光用抗蚀剂组合物，其中含有在酸的作用下碱溶性发生变化的树脂成分(A)，所述树脂成分(A)含有具有结构单元(a0)的高分子化合物(A1)，所述结构单元(a0)具有放射线的照射下产生酸的酸产生基。
基本信息
专利标题 ：
浸液曝光用抗蚀剂组合物和抗蚀图案形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101080673A
申请号 ：
CN200580043555.3
公开（公告）日 ：
2007-11-28
申请日 ：
2005-12-01
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
辻裕光松丸省吾
申请人 ：
东京应化工业株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
朱丹
优先权 ：
CN200580043555.3
主分类号 ：
G03F7/004
IPC分类号 ：
G03F7/004 H01L21/027 G03F7/039
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/004
感光材料
法律状态
2011-08-17 ：
授权
2008-01-23 ：
实质审查的生效
2007-11-28 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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