抗蚀剂图案的形成方法
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摘要
本发明的抗蚀剂图案的形成方法，是包括下述工序(i)～(ii)的抗蚀剂图案的形成方法：(i)使用正型抗蚀剂组合物在基板上形成第1抗蚀剂层，选择性地进行曝光，在该第1抗蚀剂层上形成密图案的潜像部的工序；(ii)使用负型抗蚀剂组合物在该第1抗蚀剂层上形成第2抗蚀剂层，选择性地进行曝光后，同时使第1抗蚀剂层和第2抗蚀剂层显像，使所述密图案的潜像部的一部分露出的工序；该抗蚀剂图案的形成方法的特征在于：作为所述负型抗蚀剂组合物，使用在不溶解第1抗蚀剂层的有机溶剂中溶解的负型抗蚀剂组合物。
基本信息
专利标题 ：
抗蚀剂图案的形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101099114A
申请号 ：
CN200580046147.3
公开（公告）日 ：
2008-01-02
申请日 ：
2005-11-08
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
岩井武岩下淳
申请人 ：
东京应化工业株式会社
申请人地址 ：
日本神奈川县
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
朱丹
优先权 ：
CN200580046147.3
主分类号 ：
G03F7/26
IPC分类号 ：
G03F7/26 G03F7/038 G03F7/039 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
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G03F
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G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/26
感光材料的处理及其设备
法律状态
2010-12-22 ：
授权
2008-02-27 ：
实质审查的生效
2008-01-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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