公开了分子抗蚀剂组合物和应用方法，其中组合物包括不含硅的材料、非聚合物材料和取代寡糖，其中取代寡糖被至少一个可酸裂的－OR基取代，其中取代寡糖有2－10个单糖，其中分子抗蚀剂初始不溶于显影剂中，该显影剂可以是含水碱性溶液或基本由水组成的显影剂。在一些实施方案中，当曝光于波长为193nm或更小的照射且从约室温－约110℃的后曝光烘焙温度时，分子抗蚀剂可以变得溶解于基本由水组成的显影剂中。本发明的抗蚀剂材料可以用于印刷特征尺寸，其中当显影剂基本由水或含水的碱性溶液组成时，显影图像可以具有不大于120nm的线/间隙。