掩模、掩模的制造方法、图案形成装置、图案形成方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
本发明是用于对被成膜基板形成具有第一图案的薄膜的掩模(M)，具备：具有与第一图案相对应的开口部分(22)的非磁性体基板(S)，和在非磁性体基板(S)上所配置的具有第二图案的磁性体膜(28)。因此，本发明的目的在于，提出了能较容易地防止由自身重量引起的挠曲的掩模、掩模的制造方法、还有利用这些掩模的成膜装置等。
基本信息
专利标题 ：
掩模、掩模的制造方法、图案形成装置、图案形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1824826A
申请号 ：
CN200610009566.6
公开（公告）日 ：
2006-08-30
申请日 ：
2006-02-24
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
四谷真一
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
汪惠民
优先权 ：
CN200610009566.6
主分类号 ：
C23C14/04
IPC分类号 ：
C23C14/04 C23C14/24 H05B33/10 H05B33/14 G03F1/00
相关图片
IPC结构图谱
C
C部——化学；冶金
C23
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面化学处理；金属材料的扩散处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆；金属材料腐蚀或积垢的一般抑制
C23C
对金属材料的镀覆；用金属材料对材料的镀覆；表面扩散法，化学转化或置换法的金属材料表面处理；真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C14/00
通过覆层形成材料的真空蒸发、溅射或离子注入进行镀覆
C23C14/04
局部表面上的镀覆，例如使用掩蔽物
法律状态
2010-07-21 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
号牌文件类型代码 : 1603
号牌文件序号 : 101003372148
IPC(主分类) : C23C 14/04
专利申请号 : 2006100095666
公开日 : 20060830
号牌文件序号 : 101003372148
IPC(主分类) : C23C 14/04
专利申请号 : 2006100095666
公开日 : 20060830
2006-10-25 ：
实质审查的生效
2006-08-30 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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