掩模、掩模的制造方法、图形形成方法、布线图形形成方法
发明专利申请公布后的视为撤回
摘要
一种能够提高掩模强度及高分辨率地形成图形作为布线图形的图形区域、且一并形成大面积的图形区域的掩模。本发明的掩模，是用于在基板上形成规定图形的掩模，其特征在于具备设有与规定图形对应的开口部(16)的图形形成构件(10)、和重叠设置在上述图形形成构件(10)的一面的图形保持构件(12)。
基本信息
专利标题 ：
掩模、掩模的制造方法、图形形成方法、布线图形形成方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1811594A
申请号 ：
CN200610005011.4
公开（公告）日 ：
2006-08-02
申请日 ：
2006-01-18
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
梅津一成四谷真一
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
李香兰
优先权 ：
CN200610005011.4
主分类号 ：
G03F7/00
IPC分类号 ：
G03F7/00 G03F7/20 H01L21/027
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2009-12-30 ：
发明专利申请公布后的视为撤回
2006-09-27 ：
实质审查的生效
2006-08-02 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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