形成图形的方法
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
摘要
一种形成图形的方法改善了光刻胶图形的轮廓。本方法包括下列各步骤：在有台阶的衬底上形成光刻胶层、用第一掩模将光刻胶层作第一次曝光，用第二掩模将由于台阶使光刻胶层很厚的部位作第二次曝光，所述的第二掩膜有一栅图形或一方格盘型图形，以及将曝过光的光刻胶层显影。尤其是，在台阶处的厚光刻胶要进行充足的曝光，从而避免形成桥接或残胶，而获得改善了轮廓的图形。
基本信息
专利标题 ：
形成图形的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1089370A
申请号 ：
CN93120819.X
公开（公告）日 ：
1994-07-13
申请日 ：
1993-12-10
授权号 ：
CN1066829C
授权日 ：
2001-06-06
发明人 ：
金鹤韩宇声
申请人 ：
三星电子株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道
代理机构 ：
中国国际贸易促进委员会专利商标事务所
代理人 ：
王茂华
优先权 ：
CN93120819.X
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 H05K3/06
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2010-02-10 ：
专利权的终止(未缴年费专利权终止)
2001-06-06 ：
授权
1996-07-10 ：
实质审查请求的生效
1994-07-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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1、
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