图形形成基板、光电装置及光电装置的制造方法
专利权的视为放弃
摘要
本发明提供一种能够提高通过干燥液滴形成的叠层图形的均匀性，同时能够提高其生产性的图形形成基板、光电装置及光电装置的制造方法。在下层液中混合亲液性微粒子(26)生成下层形成液(25L)，干燥由该下层形成液(25L)构成的下层液滴(25D)，形成空穴输送层。然后，对空穴输送层照射紫外线，在引发了亲液性微粒子(26)的亲液性后，在该空穴输送层上形成包含发光层形成材料的上层液滴，叠层发光层。
基本信息
专利标题 ：
图形形成基板、光电装置及光电装置的制造方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN1832641A
申请号 ：
CN200510129537.9
公开（公告）日 ：
2006-09-13
申请日 ：
2005-12-06
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
丰田直之
申请人 ：
精工爱普生株式会社
申请人地址 ：
日本东京
代理机构 ：
中科专利商标代理有限责任公司
代理人 ：
刘建
优先权 ：
CN200510129537.9
主分类号 ：
H05B33/00
IPC分类号 ：
H05B33/00 H05B33/10 H05B33/12 H01L33/00 G09F9/30
相关图片
法律状态
2010-01-06 ：
专利权的视为放弃
2006-11-08 ：
实质审查的生效
2006-09-13 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
1、
CN1832641A.PDF
PDF下载
