图形形成方法
专利权的终止
摘要

本发明提供一种图形形成方法,其包括在被处理基板上形成感光性树脂膜,对所述感光性树脂膜有选择地照射能量线,在多个曝光区域各自上形成预期的潜像图形,在形成所述潜像图形后,在设在热板上的衬垫上载置所述被处理基板,采用所述热板加热所述感光性树脂膜,为形成与所述潜像图形对应的感光性树脂膜图形而对所述感光性树脂膜显影,所述图形形成方法,在所述能量线的照射时,以使在所述被处理基板背面和所述热板表面的距离大的曝光区域的所述能量线的照射量,相对大于在所述被处理基板背面和所述热板表面的距离小的曝光区域的所述能量线的照射量的方式,设定所述能量线的照射量。

基本信息
专利标题 :
图形形成方法
专利标题(英):
暂无
公开(公告)号 :
CN1770009A
申请号 :
CN200510117520.1
公开(公告)日 :
2006-05-10
申请日 :
2005-11-02
授权号 :
暂无
授权日 :
暂无
发明人 :
川野健二柴田刚早崎圭
申请人 :
株式会社东芝
申请人地址 :
日本东京都
代理机构 :
北京市中咨律师事务所
代理人 :
陈海红
优先权 :
CN200510117520.1
主分类号 :
G03F7/00
IPC分类号 :
G03F7/00  G03F7/20  G03F7/38  G03F7/30  H01L21/027  
相关图片
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术;电影术;利用了光波以外其他波的类似技术;电记录术;全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F7/00
图纹面,例如,印刷表面的照相制版如光刻工艺;图纹面照相制版用的材料,如:含光致抗蚀剂的材料;图纹面照相制版的专用设备
法律状态
2017-12-15 :
专利权的终止
未缴年费专利权终止IPC(主分类) : G03F 7/00
申请日 : 20051102
授权公告日 : 20091223
终止日期 : 20161102
2009-12-23 :
授权
2006-07-05 :
实质审查的生效
2006-05-10 :
公开
注:本法律状态信息仅供参考,即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
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