改进照明系统、曝光装置和形成线/间隔电路图形的方法
专利权的终止
摘要
公开了一种改进照明系统、曝光装置和形成线/间隔电路图形的方法。一种曝光装置和该曝光装置的光掩模，能够仅通过一个曝光工艺来形成正交线/间隔电路图形。该光掩模包括：在第一方向上取向的第一线/间隔图形、在第二方向上取向的第二线/间隔图形和用作偏振器的占据线/间隔图形的间隔的格状图形。该曝光装置还包括改进照明系统。该改进照明系统可以为具有相对于光基本不透明的遮蔽区和限定在遮蔽区的领域内的多个光传输区的组合偏振改进照明系统。光传输区用作分别在第一和第二方向上偏振入射于其上的光的偏振器。
基本信息
专利标题 ：
改进照明系统、曝光装置和形成线/间隔电路图形的方法
专利标题（英）：
暂无
公开（公告）号 ：
CN101634813A
申请号 ：
CN200910164158.1
公开（公告）日 ：
2010-01-27
申请日 ：
2005-10-11
授权号 ：
暂无
授权日 ：
暂无
发明人 ：
金淏哲
申请人 ：
三星电子株式会社
申请人地址 ：
韩国京畿道水原市灵通区梅滩洞416番地
代理机构 ：
中原信达知识产权代理有限责任公司
代理人 ：
李 佳
优先权 ：
CN200910164158.1
主分类号 ：
G03F7/20
IPC分类号 ：
G03F7/20 G03F7/00 G03F1/14
IPC结构图谱
G
G部——物理
G03
摄影术；电影术；利用了光波以外其他波的类似技术；电记录术；全息摄影术
G03F
图纹面的照相制版工艺，例如，印刷工艺、半导体器件的加工工艺；其所用材料；其所用原版；其所用专用设备
G03F7/00
图纹面，例如，印刷表面的照相制版如光刻工艺；图纹面照相制版用的材料，如：含光致抗蚀剂的材料；图纹面照相制版的专用设备
G03F7/20
曝光及其设备
法律状态
2015-11-25 ：
专利权的终止
未缴年费专利权终止号牌文件类型代码 : 1605
号牌文件序号 : 101635080980
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2009101641581
申请日 : 20051011
授权公告日 : 20111207
终止日期 : 20141011
号牌文件序号 : 101635080980
IPC(主分类) : G03F 7/20
专利号 : ZL2009101641581
申请日 : 20051011
授权公告日 : 20111207
终止日期 : 20141011
2011-12-07 ：
授权
2010-03-24 ：
实质审查的生效
2010-01-27 ：
公开
注：本法律状态信息仅供参考，即时准确的法律状态信息须到国家知识产权局办理专利登记簿副本。
文件下载
暂无PDF文件可下载
